抗体从头生成工具

基于深度学习的抗体序列设计平台,支持高亲和力抗体的从头生成和优化

目标抗原序列

设计参数

0.1 nM 1.0 nM 10 nM
中等
3 5 20

3D结构预览

抗体结构示意图

生成后将显示详细的3D分子结构

95%
成功率
0.5nM
平均亲和力

生成结果

点击"开始生成抗体"查看结果

技术原理

基于深度学习的抗体重头生成算法,结合物理约束和进化信息

🧠

深度学习模型

使用Transformer架构和扩散模型,学习抗体序列的深层特征和结构约束

物理约束优化

结合分子动力学模拟和能量计算,确保设计的抗体具有良好稳定性

🎯

亲和力预测

基于结构互补性和相互作用能计算,准确预测抗体-抗原结合亲和力